TFT液晶顯示屏的優(yōu)缺點是什么

TFT技術(shù)是在20世紀90年代發(fā)展起來的。采用新材料和新工藝的大規(guī)模半導體集成電路制造技術(shù)是液晶、無機和有機薄膜電致發(fā)光(EL和OEL)平板顯示器的基礎(chǔ)。TFT是通過濺射和化學沉積工藝在玻璃或塑料基板等非單晶片上(當然也可以在晶片上)形成制造電路所需的各種薄膜，通過加工薄膜制造大規(guī)模半導體集成電路(LSIC)。非單晶襯底的使用可以大大降低成本，是傳統(tǒng)大規(guī)模集成電路向大面積、多功能、低成本方向的延伸。在大面積玻璃或塑料基板上制造TFT來控制像素(LC或有機發(fā)光二極管)的開關(guān)性能，比在硅片上制造大規(guī)模ic更困難。對生產(chǎn)環(huán)境(凈化等級100)、原料純度(電子專用氣體純度99.99985%)的要求，對生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)工藝的要求都超過了半導體大規(guī)模集成的要求，是現(xiàn)代大規(guī)模生產(chǎn)的頂尖技術(shù)。

TFT液晶顯示屏大面積:90年代初，第一代大面積玻璃基板(300mm×400mm)TFT-LCD生產(chǎn)線投產(chǎn)。到2000年上半年，玻璃基板面積擴大到680mm×880mm，近950mm×1200mm玻璃基板也將投產(chǎn)。

TFT液晶顯示屏高集成度:用于液晶投影的1.3英寸TFT芯片分辨率為百萬像素XGA。分辨率SXGA(1280×1024)的TFT陣列16.1英寸非晶硅薄膜厚度只有50nm，TABONGLASS和SYSTEMONGLASS的技術(shù)及其IC集成度、對設(shè)備和供應(yīng)工藝的要求、技術(shù)難度都高于傳統(tǒng)LSI。

TFT液晶顯示屏功能強大:TFT作為矩陣尋址電路，提高了液晶的光閥特性。對于高分辨率顯示器，通過在0-6V范圍內(nèi)(其典型值為0.2-4V)調(diào)節(jié)電壓來實現(xiàn)對像素的精確控制，使得LCD實現(xiàn)高質(zhì)量、高分辨率的顯示成為可能。

TFT液晶顯示屏成本低:玻璃基板和塑料基板從根本上解決了大規(guī)模半導體集成電路的成本問題，為大規(guī)模半導體集成電路的應(yīng)用開辟了廣闊的應(yīng)用空間。

TFT液晶顯示屏工藝靈活:除了濺射、CVD(化學氣相沉積)、MCVD(分子化學氣相沉積)等傳統(tǒng)工藝外，激光退火技術(shù)也開始應(yīng)用，可以制作非晶薄膜、多晶薄膜和單晶薄膜。不僅可以制作硅膜，還可以制作其他II-VI和III-V半導體膜。

TFT液晶顯示屏應(yīng)用領(lǐng)域廣?；赥FT技術(shù)的液晶平板顯示器是信息社會的支柱產(chǎn)業(yè)，該技術(shù)也可以應(yīng)用于快速發(fā)展的TFT-有機發(fā)光二極管平板顯示器。